特種氣體的供應(yīng)方式截至目前為止，幾乎皆用鋼瓶的方式進(jìn)行。一般常用的為高壓鋼瓶，依其填充的氣體特性有分為氣態(tài)和液態(tài)兩種。一般氣體依液態(tài)儲(chǔ)存于鋼瓶?jī)?nèi)，瓶?jī)?nèi)壓力較高，所以蕞佳方式是選用吸附式氣態(tài)鋼瓶，以氣體分子與吸附劑間的范德瓦力將氣體吸附于吸附劑孔隙中，其優(yōu)點(diǎn)為供氣壓力低于一個(gè)大氣壓，無(wú)任何泄漏的危險(xiǎn)，且供氣量為普通高壓鋼瓶的10倍，低蒸汽壓的氣體以液態(tài)儲(chǔ)存于鋼瓶?jī)?nèi)；針對(duì)易然易暴，有毒性腐蝕性的氣體，常將鋼瓶至于特氣柜中，再通過(guò)管路將氣體供應(yīng)至現(xiàn)場(chǎng)附近的閥箱，經(jīng)過(guò)一系列的控制而后進(jìn)入用氣點(diǎn)；一般惰性氣體以開(kāi)放式的氣瓶架和閥盤供應(yīng)；具體方式如下：
現(xiàn)場(chǎng)制氣、管道供氣
這種供氣方式時(shí)將制氣設(shè)備建造在用氣量較大或者用氣品種較多的工廠內(nèi)或按區(qū)域設(shè)置供應(yīng)周邊各單位用氣。
1－中壓貯氣罐；2－調(diào)壓閥組；3－氣體過(guò)濾器；4－液態(tài)氣體貯罐；5－汽化器；6－安全閥； 7－自動(dòng)控制閥；8－氣體純化裝置；9－流量計(jì)；10－末端氣體過(guò)濾器；11－末端氣體純化器；12－用氣點(diǎn)；13－高壓氣體壓縮機(jī)；14－高壓氣體貯罐（P=15~20MPa）
高純氣體管道配管
所有高純度、高潔凈的氣體均需通過(guò)管路輸送到設(shè)備用點(diǎn)(POU)，為了達(dá)到工藝對(duì)氣體的質(zhì)量要求，在氣體出口指標(biāo)一定的情況下，則更需重視配管系統(tǒng)的材料選用和施工質(zhì)量。除取決于制氣或凈化設(shè)備的精度外，在很大程度上受到管路系統(tǒng)諸多因素的影響，因此，管材的選取應(yīng)恪守相關(guān)行業(yè)原則，并在圖紙中注明管道材質(zhì)。
管路的材質(zhì)則依使用的需求進(jìn)行選擇，若為制程用的反應(yīng)氣體則選擇高等級(jí)的316L EP管，經(jīng)電解拋光(Electro-Polish)處理，耐腐蝕，表面粗糙度低，Rmax(maximum peak to valleyheight)約為0.3μm以下，其值遠(yuǎn)低于經(jīng)過(guò)光輝燒結(jié)(Bright Anneal)處理之316L BA管的0.8μm，因平整度越高越不容易形成微渦流，而將污染粒子帶出。316L BA管則常使用于和芯片接觸但不參與制程反應(yīng)的氣體，如GN2、CDA。管內(nèi)表面粗糙度是衡量管材質(zhì)量的標(biāo)準(zhǔn)。粗糙度越低，其顆粒攜帶可能性大大降低。另一種未經(jīng)特殊處理的AP管(Annealing & Picking)，則用于不做為供氣管路的雙套外管。
監(jiān)測(cè)站房?jī)?nèi)應(yīng)配備標(biāo)準(zhǔn)氣體和工作氣源，且在有效期內(nèi)。標(biāo)準(zhǔn)氣體應(yīng)包含零氣和 NMHC-CEMS的量程標(biāo)氣。零氣可使用氮?dú)饣驖崈艨諝?，其中碳?xì)浠衔锖坎怀^(guò)0.3mg/m3。標(biāo)準(zhǔn)氣體不確定度不超過(guò)±2.0%，較低濃度的標(biāo)準(zhǔn)氣體可以使用高濃度的標(biāo)準(zhǔn)氣體采用等比例稀釋方法獲得，等比例稀釋裝置的精密度在1%以內(nèi)。工作氣源純度應(yīng)滿足分析儀器使用要求，氫氣純度至少達(dá)到99.99%。
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